无掩膜数字光刻机

无掩膜数字光刻机(工业型）

DS - 2000/14G

技术特点：

该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的较紫外光作为光源，用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板，采用积木 错位蝇眼透镜实现高均匀照明，并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统（可同时使用），拼接获得大面积图形，曝光设定采用微机控制，菜单界面友好，操作简便。

主要技术指标

曝光光源：350W汞灯

曝光谱线： i线（365nm)

照明均匀性：±2%；

曝光场面积：1mm×0.75mm

光刻分辨力：1μm

CCD检焦，检测精度：2um

工件台运动定位精度：±0.65μm；

调焦台运动灵敏度：1μm；

工件台运动范围：X：100mm、 Y：100mm；

对准精度： ±1μm；

调焦台运动行程：±6mm

转动台行程：±6°以上

基片尺寸：外径: Ф1mm—Ф100mm，

　　 厚度：0.1mm—8mm

3．外形尺寸：840mm（长）×450mm(宽) ×830mm（高）

无掩模光刻机系统关键技术：曝光光学系统、光匀化技术、图形发生器、投影物镜、对焦系统、对准系统、精密工件台、步进拼接、控制软件等